クロムチューブターゲット

クロム管ターゲットは、マグネトロン スパッタリング、イオン プレーティング、PVD 真空成膜に一般的に使用される金属ターゲットで、主に写真学、エレクトロニクス、装飾、耐食性などの加工機能に使用されます。ここではその基本特性を簡単に紹介します。{0}

基本情報

化学元素:クロム(Cr)

形：チューブ-状（丸いチューブ/シリンダー-の形状、内側にマグネ​​トロン スパッタリング用の磁石が付いている）

純度：99.5%、99.7%、99.8% 以上、最大純度は 99.95% になる可能性があります

一般的な寸法:外径:60mm-150mm、長さ:500mm-3000mm (カスタマイズ)

テクニックプロセス:真空溶解→HIP/CIP(熱間等静圧/冷間等静圧)→熱間プラズマ溶射またはチューブターゲット構造への溶接。

物理的および化学的特性

密度：7.19g/cm3、高い金属密度。

融点:1907 度、融点が高く、高温状況に適しています。-

熱膨張率:6.2×10⁻⁶/K、安定した加熱能力-。

電気抵抗率:12.9μΩ・cmと優れた電子伝導性を誇ります。

剛性：HV ≈ 800-1000、丈夫でウェアラブルな表面

耐酸化性:優れた、緻密なCr2O3膜の形成

耐食性-:酸、アルカリ、酸化剤に対する優れた耐性

フィルム特性

フィルムの色:シルバーグレーまたはメタルブライトグレー。

フィルムの特性:密着性と剛性が良好

高い反射率と電子伝導性

優れた耐食性-とウェアラブル特性

代表的なアプリケーションフィルムシステム

Cr単層膜:装飾層または接着層として機能します。

CrN、Cr2O3:ハードタイプの保護フィルムです。フォトロジーフィルム、耐食フィルム。

主な応用分野

装飾コーティングフィルム（時計ケース、ハードウェア、バスルームアクセサリーなど）

工具・金型コーティング膜（CrN、CrCシリーズ）

フォトロジーコーティング膜（反射膜、吸収膜）

半導体とディスプレイの製造-

利点

高純度、低ガス含有量

バランスのとれたスパッタリング発射速度、良好なターゲット使用率

安定した化学的特性と抗酸化特性

複数の基材（ガラス、金属、セラミックなど）との優れた組み合わせ